お知らせ
国際公募展「中華民国第十九回国際版画ビエンナーレ」[2019.10.28]

中華民国第十九回国際版画ビエンナーレ


趣旨:版画芸術の創作を提唱し、国際文化交流を促進するため、世界各地の優れたアーティストたちの出品を求む。審査及び展覧会により、国際版画ビエンナーレの交流を広め、版画芸術の未来を大きく飛躍させる。

主催者:国立台湾美術館
〒40359 中華民國台湾台中市五権西路1段2号
Tel:886-4-2372-3552(内)703、702
https://printbiennial.ntmofa.gov.tw/

応募条件:申込費用は無料、各国の方が応募することができる。紙の作品のみとし、2017年(含む)以降に制作し、本展への未出品作品に限る。
応募作品の紙サイズ(枠を含めたサイズ)は、長さと幅はいずれも40から150cm以内とし、厚みは20cm以内とする。

申込時間:2019年12月3日から2020年2月5日まで。申込時間内にて国際版画ビエンナーレのウェブサイトにてオンライン申込を行い、ラベル、誓約書、授権所及び寄贈同意書をプリントアウトすること。

作品の提出方法:送付期間は2019年12月3日から2020年2月5日当日まで(消印有効)


資料をご希望の当連盟会員の方は事務局までご連絡ください。